如何高質(zhì)量撰寫技術(shù)交底書?如何進(jìn)行專利布局?這兩個話題似乎是每個專利申請人不可繞開的焦點(diǎn)問題。

企業(yè)申請布局專利已經(jīng)成為大勢所趨。優(yōu)質(zhì)合理的專利布局有利于企業(yè)總攬全局、預(yù)測競爭情報，對于企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新、抵御市場競爭、布局發(fā)展策略等具有重要的指導(dǎo)意義。

12月11日，一場"如何高質(zhì)量撰寫技術(shù)交底書及專利布局"交流會在高沃北京總部會議室如期召開，來自各地的約50位客戶如約而至，共同參加了這一主題交流會。

隨著我國自主創(chuàng)新能力的提高，我國的企業(yè)也越來越認(rèn)識到做好知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)工作的重要性，企業(yè)尋求創(chuàng)新技術(shù)專利保護(hù)，擴(kuò)展海外市場的意愿日益迫切。在此背景下，做好專利布局變得愈發(fā)重要。

技術(shù)交底資料作為專利申請人(發(fā)明人)與專利代理人溝通的資料，是給專利代理人交代要申請專利的技術(shù)方案的資料，這也就要求專利代理人具有"高撰寫水準(zhǔn)"，遵照"專業(yè)、嚴(yán)謹(jǐn)"的工作流程。

高沃知識產(chǎn)權(quán)講師從"專利申請、撰寫、布局、保護(hù)"幾個方面一一進(jìn)行了深入淺出的講解，寫專利很容易，但把專利寫的有水準(zhǔn)很難，通過介紹實(shí)際專利審查過程中遇到的案例，告訴大家在專利文件撰寫過程中要注意哪些問題，把握哪些技術(shù)關(guān)鍵信息，在布局中要遵照幾個原則，以確保更完善、嚴(yán)密、有效地保護(hù)創(chuàng)新技術(shù)。

隨著世界技術(shù)競爭的日益激烈，各國企業(yè)紛紛開展專利戰(zhàn)略研究，專利不僅已經(jīng)成為衡量企業(yè)實(shí)力的標(biāo)準(zhǔn)，也成為了捍衛(wèi)自身的必備武器。企業(yè)專利布局已經(jīng)成為大勢所趨。專利申請及全面布局有利于企業(yè)總攬全局、預(yù)測競爭情報，對于企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新、抵御市場競爭、布局發(fā)展策略等具有重要的指導(dǎo)意義。本期交流會圓滿召開，現(xiàn)場高沃專家講師一一解答了客戶疑問，各位參會的企業(yè)代表、知產(chǎn)管理人員對老師的講解非常滿意，會后反饋受益頗豐。另外下午還有更深入圓桌論壇，與高沃專家面對面探討知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)問題，為大家解決企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)布局難題，定制個性化知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)方案。高沃一直踐行"用知識產(chǎn)權(quán)為客戶實(shí)現(xiàn)最大價值"的價值觀，為客戶提供從申請到訴訟一站式知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)。如果您在專利申請、布局中遇到任何問題，歡迎聯(lián)系我們?yōu)槟贫ń鉀Q方案。

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